--UPDATE `gyosyu` SET title='',keyword='',comment='',flag=,link='',sub='',gazo='',replace_key='',subsub=,kanren=,kensaku='' where num = 694
フォトレジストについてフォトレジスト(photoresist)とは、光や電子線などの照射によって物性が変化し、特定のパターンを形成するために使用される感光性材料です。半導体やプリント基板にフォトレジストを塗布して回路パターンを形成する工程などで使います。フォトレジストの主な特徴ネガ型: 露光された部分の溶解性が低下し、現像によって露光部分が残ります。微細なパターンを形成するのが難しいため、利用が減少傾向にあります。ポジ型: 露光された部分の溶解性が増大し、現像によって露光部分が除去されます。現像時の取り扱いがしやすく、微細なパターンの形成に適しています2。フォトレジストの応用半導体製造: 微細な回路パターンの形成に使用され、高解像度のスマートフォン画面やCPUなど、現代の電子機器に欠かせない技術です。光触媒: 光によって化学反応を引き起こす特性を利用して、環境浄化にも応用されています。